產(chǎn)品中心
Product Center
當(dāng)前位置：首頁(yè)
產(chǎn)品中心材料樣品處理小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD小型高溫蒸鍍儀
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
小型高溫蒸鍍儀，鎢舟加熱，或者坩堝加熱，溫度可達(dá)1800度，帶樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)功能，使鍍膜更加均勻
| 品牌 | 鄭科探 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
小型高溫蒸鍍儀，鎢舟加熱，或者坩堝加熱，溫度可達(dá)1800度，帶樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)功能，使鍍膜更加均勻，
軟件自動(dòng)操控、高性?xún)r(jià)比，非常適合實(shí)驗(yàn)室科研使用。
通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱(chēng)為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史最悠久的PVD鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。
★ 專(zhuān)業(yè)真空蒸發(fā)電源，數(shù)顯工作電流和電壓，恒流輸出；
★ 可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；
★ 襯底可選擇加熱或水冷，源基距≥300mm；
★ 可調(diào)速旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)使薄膜更均勻
★ 可沉積金屬（Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等）、非金屬、化合物（MoO3, LiF等）及有機(jī)物材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；
不同真空度 不同鍍膜時(shí)間鍍銅樣品圖
原樣品沒(méi)有鍍膜 
115A 100秒 機(jī)械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
小型高溫蒸鍍儀KT-Z1650CVD
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
加熱方式 | 數(shù)字式功率調(diào)整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
最大功率 | ≤1200W |
最大輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類(lèi)型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （最大可安裝φ50基底） |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離 | 70-140mm |
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié) | ≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類(lèi)型 | 鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩 |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計(jì)接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
可選配擴(kuò)展 | 機(jī)械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數(shù)顯真空計(jì)（測(cè)量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機(jī)組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
上一個(gè)：
返回列表
