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當前位置:首頁產品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD持久型小型濺射儀

持久型小型濺射儀

產品簡介

持久型小型濺射儀,石英玻璃腔體,濺射距離可調節(jié),外接水冷機可持久濺射,觸摸屏控制,濺射時間工藝記憶儲存。

產品型號:KT-Z1650PVD
更新時間:2024-03-27
廠商性質:生產廠家
訪問量:1232
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品牌鄭科探濺射氣體根據需求通氣
樣品臺尺寸50mm控制方式觸摸屏智能控制
樣品倉尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
靶材材質金 鉑 銅 銀 等價格區(qū)間面議
產地類別國產應用領域綜合

持久型小型濺射儀

一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點,

     磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

需要鍍膜的樣品

1、電子束敏感的樣品:

主要包括生物樣品,塑料樣品等。SEM中的電子束具有較高能量,在與樣品的相互作用過程中,它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對電子束敏感的材料,那這種相互作用會破壞部分甚至整個樣品結構。這種情況下,用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護層的作用,防止此類損傷;

2、非導電的樣品:

由于樣品不導電,其表  面帶有電子陷阱",  這種表面上的電子積累  被稱為充電"。為了  消除荷電效應,可在樣  品表面鍍一層金屬導電  層,鍍層作為一個導電  通道,將充電電子從材  料表面轉移走,消除荷  電效應。在掃描電鏡成  像時,濺射材料增加信  噪比,從而獲得更好的成像質量。637852830951780038369.jpg

持久型小型濺射儀廠家供應技術參數;

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口




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