離子濺射儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

KT-Z1650CVD是一款小型臺(tái)式蒸發(fā)功率可控蒸發(fā)鍍膜儀離子濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻蒸發(fā)沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。

產(chǎn)品型號(hào)：

更新時(shí)間：2024-03-27

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問(wèn)量：2099

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產(chǎn)品分類

材料樣品處理

真空回流焊爐冷阱電解槽小型蒸鍍儀小型濺射儀等離子清洗機(jī)

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品牌	鄭科探	價(jià)格區(qū)間	面議
產(chǎn)地類別	國(guó)產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	電子/電池

KT-Z1650CVD是一款小型臺(tái)式蒸發(fā)功率可控蒸發(fā)鍍膜儀離子濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)熱功率及蒸發(fā)功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻蒸發(fā)沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。離子濺射儀

參數(shù)

設(shè)備名稱	小型濺射儀	小型蒸鍍儀
控制方式	7寸人機(jī)界面手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制	7寸人機(jī)界面手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制
工作電源	直流濺射電源	直流熱蒸發(fā)電源
鍍膜功能	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序	0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率	≤1000W	≤1500W
輸出電壓電流	電壓≤1000V 電流≤1A	電壓≤12V 電流≤100A
真空	機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘）分子泵≤5*10^-3Pa
腔體真空	≤30Pa
擋板類型	電控
真空腔室	石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm	石英腔體φ160mm x 160mm
樣品臺(tái)	可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底）
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速	8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離	40-105mm	70-140mm
蒸發(fā)坩堝容積		3ML
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié)		≤1600℃
真空測(cè)量	皮拉尼真空計(jì)（已安裝測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa）
預(yù)留真空接口	KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口
可選配擴(kuò)展	1 膜厚在線測(cè)試 2 分子泵