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等離子清洗機(jī)優(yōu)勢(shì)

更新時(shí)間:2023-11-16點(diǎn)擊次數(shù):986

等離子清洗機(jī)的優(yōu)勢(shì):

1:真空度:用皮拉尼原理測(cè)量精確到Pa,千帕是用壓力規(guī)測(cè)試,不是一個(gè)量級(jí)的。

2:傳感器:用的進(jìn)口的氣體流量傳感器,是質(zhì)量流量計(jì)檢測(cè)氣體,精確度是通入流量的±1.5%。浮子流量計(jì),是滿量程的4%,而且浮子球是上下浮動(dòng),手碰一下亂跑,真實(shí)效果達(dá)不了那么高。

4:功率是150W,國(guó)內(nèi)都是統(tǒng)一的。

5:2路流量計(jì),質(zhì)量流量計(jì)采集更精準(zhǔn),流量控制 2個(gè)精密針閥調(diào)節(jié),線性調(diào)節(jié)度較好。

6: 真空采集皮拉尼原理真空計(jì),測(cè)量大氣壓到0.1Pa的絕對(duì)真空。   

7: 通過(guò)精準(zhǔn)的流量檢測(cè)及真空采集 使自動(dòng)控制一氣呵成,通過(guò)檢測(cè)固定的真空值讓射頻輝光,即使是手動(dòng)匹配射頻電源,也只需要匹配一次,下次相同工藝,基本不需要再次調(diào)節(jié)匹配 。

等離子腔.jpg1.jpg

問(wèn):清洗光刻膠可以嗎?

答:簡(jiǎn)單的理解就是用氧氣把光刻膠燃燒掉,光刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物,在射頻或微波作用下,氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成一氧化碳,二氧化碳和水等,再通過(guò)泵被真空抽走,完成光刻膠的去除。

問(wèn):可以去除表面雜質(zhì)和一些膠嘛?

答:這個(gè)就是清洗半導(dǎo)體芯片表面纏雜的膠和雜質(zhì),可以去除納米級(jí)別的微小的膠和其它顆粒或者薄膜。

問(wèn):操作方便嘛

答:操作很方便。開(kāi)關(guān)打開(kāi)后,石英腔體抽真空,然后產(chǎn)生等離子,等離子和表面的污染物產(chǎn)生反應(yīng),產(chǎn)生廢氣,真空泵把廢氣抽走,等離子清洗機(jī)里面有一個(gè)托盤(pán),咱們把產(chǎn)品放托盤(pán)上面,就可以清洗了。

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